• 10L等離子清洗機(jī) 500W/1000W是一種小型化、非破壞性的清洗設(shè)備。該等離子清洗機(jī)采用低氣壓激...
    • 本型號(hào)勻膠機(jī)采用全鋁合金腔體,外觀(guān)美觀(guān)堅(jiān)固;腔體上蓋則采用360°可視的有機(jī)玻璃設(shè)計(jì),便于客戶(hù)使用過(guò)...
    • 感應(yīng)爐CY-IVΦ300-15KW-SS是一款頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應(yīng)加熱/熔化系統(tǒng)。這種...
    • 本產(chǎn)品是一款小型的1100℃布里奇曼晶體生長(zhǎng)爐,配有2英寸的石英管,精密提拉機(jī)。布里奇曼晶體生長(zhǎng)爐用...
    • 1700℃管式爐采用高質(zhì)量硅鉬棒作為加熱元件,加熱溫度可高達(dá)1700℃,爐管管徑為50mm,采用高純...
    • 雙靶磁控濺射鍍膜儀
      雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備
      粉末磁控濺射鍍膜儀
      粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備,利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
      桌面型磁控濺射鍍膜儀...
      磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率,從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積
      桌面型磁控濺射鍍膜儀...
      磁控濺射鍍膜儀是一種先進(jìn)的物**相沉積設(shè)備,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù),通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率,從而實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量、均勻的薄膜沉積。
    • 桌面型不銹鋼腔體熱蒸...
      熱蒸發(fā)鍍膜儀的物理過(guò)程主要包括材料的蒸發(fā)、氣態(tài)粒子的輸運(yùn)以及在基底上的沉積成膜。在蒸發(fā)過(guò)程中,材料需要獲得足夠的熱能以克服分子間的結(jié)合能,從而轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)分子并從蒸發(fā)源表面逸出 。這些氣態(tài)粒子在輸運(yùn)過(guò)程中基本上無(wú)碰撞地直線(xiàn)飛行到基底表面,并在那里凝聚形核生長(zhǎng)成固相薄膜
      高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜...
      高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機(jī)材料薄膜
      高真空電子束蒸發(fā)鍍膜...
      電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備,主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜
      三源高真空熱蒸發(fā)鍍膜...
      三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用于金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學(xué)元件,納米與微電子,太陽(yáng)能電池.
    • 1800度1Kg真空...
      1Kg真空感應(yīng)熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應(yīng)用*廣的設(shè)備之一。事實(shí)證明:宇航、導(dǎo)彈、火箭、原子能設(shè)備和電子工業(yè)所需要的合金和特殊鋼
      超高溫大容量非自耗型...
      超高溫大容量非自耗型真空電弧爐是我公司根據(jù)科研單位實(shí)驗(yàn)要求精心研發(fā)設(shè)計(jì)的一款主要用于:熔煉難熔金屬及合金,可進(jìn)行冶煉、提純、脫氧、除雜等
      鎳鈷合金中頻感應(yīng)熔煉...
      中頻感應(yīng)熔煉爐功能全 面、熔煉快速、使用方便、節(jié)能環(huán)保,非常適合實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行金屬樣品研究。廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料(如 不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等)的熔煉處理和制備,也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造
      中頻真空感應(yīng)熔煉爐
      中頻真空感應(yīng)熔煉爐是真空冶金領(lǐng)域中應(yīng)用*廣的設(shè)備之一。事實(shí)證明:宇航、導(dǎo)彈、火箭、原子能設(shè)備和電子工業(yè)所需要的合金和特殊鋼,占有相當(dāng)比例的產(chǎn)品是采用真空感應(yīng)熔煉爐生產(chǎn)出來(lái)的,例如,鎳基、鈷基、鐵基高溫合金采用真空感應(yīng)熔煉爐工藝熔煉時(shí),其熱加工性能和機(jī)械性能明顯提高
    • 換位自轉(zhuǎn)等離子鍍膜儀
      本型號(hào)等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn),本設(shè)備配備換位自轉(zhuǎn)式樣品臺(tái),用戶(hù)可以在觸控屏上實(shí)現(xiàn)一鍵換位,樣品臺(tái)可在兩個(gè)靶位自由切換,本設(shè)備體積小巧造型美觀(guān)功能強(qiáng)大,是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
      三靶等離子濺射鍍膜儀...
      本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過(guò)程中無(wú)高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以提升鍍膜的均勻性和薄膜的附著力)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀(guān),是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
      三靶等離子濺射鍍膜儀...
      本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過(guò)程中無(wú)高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀(guān),是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
      三靶等離子濺射鍍膜儀...
      本型號(hào)小型等離子濺射儀,采用二級(jí)濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過(guò)程中無(wú)高溫,不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。本型號(hào)儀器還配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),能夠有效的提升鍍膜的均勻性。(本設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),可以提升鍍膜的均勻性)該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統(tǒng),全部觸摸屏操作,便于學(xué)習(xí)使用。設(shè)備體積小巧造型美觀(guān),是實(shí)驗(yàn)室鍍膜試驗(yàn)的*佳選擇。
    • 全自動(dòng)勻膠機(jī)旋涂?jī)x
      旋涂?jī)x是一種實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,主要用于制備薄膜材料,其應(yīng)用范圍包括制備太陽(yáng)能電池,制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚合物等材料的薄膜,制備納米材料、納米結(jié)構(gòu)、納米薄膜等
      12寸防腐勻膠機(jī)旋涂...
      12寸防腐勻膠機(jī)旋涂?jī)x可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領(lǐng)域
      亞克力八英寸勻膠機(jī)帶...
      勻膠機(jī)可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領(lǐng)域
      凈化旋涂?jī)x帶加熱臺(tái)
      凈化型勻膠機(jī)廣泛用于半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等,例如對(duì)大型晶圓、芯片、晶片等進(jìn)行工藝制版時(shí),可用此設(shè)備進(jìn)行各種膠體的表面涂覆或光刻工藝勻膠; 是集成電路及半導(dǎo)體器件生產(chǎn)過(guò)程中涂覆勻膠的專(zhuān)用設(shè)備 。該設(shè)備中涂膠部分含有兩個(gè)工位的勻膠臺(tái),可分別獨(dú)立工作,也可兩臺(tái)同時(shí)工作
    • 1000mm真空加熱...
      涂布機(jī)是一種廣泛應(yīng)用于制造業(yè)中的機(jī)器設(shè)備,主要用于薄膜、紙張、布料等材料的表面涂布工藝生產(chǎn)
      間歇式鋰電池涂布機(jī)
      間歇式鋰電池涂布機(jī)本著方便研究者使用,同時(shí)滿(mǎn)足涂布精度和一致性無(wú)異于生產(chǎn)的要求設(shè)計(jì),烘干效果優(yōu)異,是鋰離子電池、超級(jí)電容、鎳電池以及其他二次電池研發(fā)的理想之選
      實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)卷對(duì)卷涂布...
      實(shí)驗(yàn)室自動(dòng)卷對(duì)卷涂布機(jī)是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種新興的實(shí)驗(yàn)室儀器。 是電氣控制與機(jī)械有機(jī)結(jié)合的一次成功**。 在涂料生產(chǎn)領(lǐng)域,可節(jié)省大量原材料,提高生產(chǎn)工藝; 關(guān)鍵是在實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,涂層的重現(xiàn)性大大提高。 專(zhuān)為高校、科研院所、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室的電池材料研發(fā)和材料檢測(cè)而設(shè)計(jì)制造
      鋰離子電池狹縫擠出型...
      狹縫擠出型涂布機(jī),可進(jìn)行連續(xù)和間歇涂布等類(lèi)型的涂布要求。設(shè)備涂布精度高,一致性穩(wěn)定性好,廣泛應(yīng)用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、光學(xué)薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)

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